Лазерная установка ПИКО-3

Печать

pico3 Лазерная установка ПИКО-3 предназначена для проведения радиационых испытаний интегральных микросхем (ИС) и полупроводниковых приборов (ПП). Источник пикосекундных лазерных импульсов позволяет, изменяя энергию импульса, моделировать ионизационные треки от воздействия частиц с различными линейными потерями энергии (ЛПЭ).

В состав лазерной установки ПИКО-3 входят: твердотельный пикосекундный лазер с диодной накачкой, высокоточная, управляемая с ПК система позиционирования и специализированный промышленный микроскоп с большим разрешением. Система может генерировать последовательность импульсов с длинами волн 1064/532 нм при частоте повторения до 1000 Гц или работать в режиме одиночных импульсов. Эти две длины волны используются для имитации эффектов от прохождения частиц с различной глубиной проникновения.

Лазерные импульсы фокусируются микроскопом на исследуемом объекте. Микроскоп оборудован двумя видеокамерами видимого и ближнего ИК диапазонов для визуализации исследуемой области объекта и расположения лазерного луча при облучении сверху и со стороны подложки, соответственно.

Предусмотрено использование микрообъективов Mitutoyo® с большим рабочим расстоянием (с увеличением от 5× до 100×). Размер пятна фокусировки падающего на исследуемый объект лазерного луча может изменяться в пределах от приблизительно 2  до 200 микрон.

Для локализации чувствительных областей, исследуемые приборы сканируются под лазерным пучком. Использование быстродействующих цифровых осциллографов, регистраторов и логических анализаторов (не входят в состав системы) позволяет регистрировать отклик исследуемого прибора на заряд, сгенерированный в полупроводниковом материале падающим на него лазерным импульсом. Пороги эффектов воздействия ОЗЧ можно определить, используя метод локального облучения.

  Особенности

·       Компактный, стабильный и надежный источник лазерных импульсов пикосекундной длительности
·       Доступные длины волн 1064/532 нм
·       Частота повторения импульсов ­-­ от 1000 Гц до одиночных импульсов
·       Прецизионная система сканирования объектов
·       Микрообъективы высокого разрешения Mitutoyo® с большим рабочим расстоянием
·       Две видеокамеры высокого разрешения видимого и ближнего ИК диапазонов для визуализации при облучении сверху и со стороны подложки
·       Точная синхронизация сканирования, облучения и регистрации
·       Компактная конструкция на оптической плите размерами 1500х700 мм
·       Управление при помощи ПК с доступным интерфейсом
·       Небольшие затраты на обслуживание

  Применения

·       Исследование:
−         одиночных сбоев
−         тиристорного эффекта
−         одиночных переходных процессов
·       Проверка методов повышения радиационной стойкости
·       Тестирование радиационно-стойких исполнений
·       Локализация чувствительных областей ИС с учетом условий эксплуатации и режимов функционирования
·       Исследование катастрофических отказов в ИС из-за тиристорного эффекта
·       Отработка методик тестирования ИС с использоваием ионных пучков
·       Тестирование микросхем на печатных платах
·       Прецизионная лазерная технологическая обработка

  Спецификация

Параметр

Единицы

Значение

Тип лазерного источника

Пикосекундный Nd3+:YAG

Перестройка длины волны

нм

1064 / 532

Максимальная энергия импульса на объекте  

мкДж

8/3

Длительность лазерного импульса (FWHM)

пс

70 (30)

Стабильность энергии лазерного импульса

%

± 3

Минимальный размер пятна (1/e2)
для микрообъектива 20×

мкм

2.4/1.4

Коэффициент ослабления

1 … 5∙104, управляется с ПК

Частота повторения импульсов

Гц

0 … 1000

Видеокамеры VIS (NIR) :

Тип

Разрешение

Частота кадров при максимальном разрешении

Пространственное разрешение

Тип интерфейса

 

пикс

Гц

мкм/пикс


Цветная ПЗС с прогрессивной разверткой  (CMOS progressive)

1392 × 1040 (1280 × 1024)

17 (25)

0,3

IEEE 1394a

Микрообъективы (стандартный набор):

Тип

Увеличение:

20×

 

 

 

шт.

шт.

 

Mitutoyo® Plan APO NIR

 

1

1

Система позиционирования объекта:

Трёхкоординатная система перемещения

Минимальный шаг (по горизонтали; по вертикали)

Диапазон перемещения (по горизонтали; по вертикали)

Максимальная линейная скорость

 


мкм


мм

мкм/с

 

Моторизированная, управляется ПК


0,156; 0,125


100; 25

500

Габаритные ограничения:

Максимальный размер объекта

Рабочее расстояние до объектива

 

мм

мм

 

400

20 (для микрообъектива 20×)

Охлаждение

Воздушное конвекционное

Общий размер

мм

1200×600×870

Источник питания:

Тип сети

Максимальная потребляемая мощность (не включая питание ПК)

Размеры

 

кВт

 

­­мм

 

~ 220 В, 50 Гц

< 1

 

365х320х160

Язык ПО

Русский, Английский

ПРИМЕЧАНИЕ: Все спецификации могут изменяться без специального уведомления