Научно-техническая конференция «Высокие технологии атомной отрасли. Молодежь в инновационном процессе»

Печать

summit В период с 24.09.19 по 26.09.19 в рамках Международного DIGITAL саммита Титовец Д.О. от лица АО «ЭНПО СПЭЛС» и Калашников В.Д. от лица НИЯУ МИФИ приняли участие в 14-й отраслевой научно-технической конференции молодых специалистов Госкорпорации «Росатом» с докладами «Оценка параметров чувствительности по одиночным радиационным эффектам сбоев при воздействии нейтронов ядерных установок» (авторы работы: Д.О. Титовец, В.А. Марфин, Д.В. Бобровский, А.И. Чумаков, А.Б. Каракозов) и «Влияние повышенной интенсивности набора дозы ионизирующего излучения на стойкость КМОП микросхем» (авторы работы: В.Д. Калашников, А.Ю. Егоров, А.В. Согоян, А.И Чумаков, А.Б. Каракозов).

Конференция проводилась в Нижнем Новгороде, и была организована советом молодёжи филиала РФЯЦ-ВНИИЭФ «Научно-Исследовательского Института Измерительных Систем им. Ю.Е. Седакова» (далее – НИИИС), администрацией НИИИС при поддержке Госкорпорации «Росатом».

В рамках конференции была организована работа следующих секций: «Автоматизированные системы управления технологическими процессами», «Разработка и автоматизация производственных технологических процессов», «Микроэлектроника», «Разработка и проектирование радиоэлектронных приборов и систем», «Информационные технологии», «Бережливое производство и производственные системы» и «Техносферная безопасность».