Главная ∙ Новости ∙ Конференция «Микроэлектронные системы» (МЭС-2026)
Конференция «Микроэлектронные системы» (МЭС-2026) проходила 27–28 мая 2026 года в кампусе Сколковского института науки и технологий (Сколтех) в Москве. Мероприятие состоялось как официальная конференция-спутник Российского форума «Микроэлектроника». Гостями и участниками конференции стали более 500 учёных, инженеров и разработчиков отрасли. Организаторами выступили Российская академия наук, Сколтех, Инновационный центр «Альфачип» и Фонд «Сколково» при поддержке Минпромторга, Минобрнауки, Росатома и других ведомств. Генеральным спонсором стал Сбер.
Научная программа включала пять профильных секций:
Всего в рамках конференции было представлено свыше 130 докладов при участии более 120 спикеров из ведущих научных и промышленных организаций.
От АО «ЭНПО СПЭЛС» и ЦЭПЭ НИЯУ МИФИ в конференции приняли участие А.И. Чумаков (в составе комитета секции №5), Д.В. Бобровский, А.Е. Козюков, Р.К. Можаев.
Пленарная сессия началась со вступительных речей В.В. Шпака (заместитель Министра промышленности и торговли РФ) и А.М. Гарбузова (руководитель Департамента инвестиционной и промышленной политики Москвы), которые определили ключевые направления развития отрасли.
Одной из интересной и, как нам кажется, правильной мыслью в докладе Шпака В.В. было то, что не смотря на развитие производства ЭКБ на 200 мм и 300мм пластинах и технологических норм 65 нм и менее, все же стратегическим вектором развития отрасли является ориентир на малые фабрики на отечественном оборудовании под пластины размером 100мм и 150 мм, так как до 70% необходимой ЭКБ можно производить по техпроцессу 350нм и более.
На секции «Инновационные методы создания и изготовления микроэлектронных систем» заместитель гендиректора НИИМЭ В.И. Эннс представил доклад о методах создания гетерогенных ПЛИС и БМК на основе новых архитектурных решений, позволяющих существенно увеличить логическую емкость и быстродействие микросхем. Отмечалось, что предлагаемые подходы дают возможность производить на отечественных фабриках конфигурируемые микросхемы, не уступающие современным зарубежным аналогам.
На секции «Специализированные системы для робототехники и космоса» А.В. Носов из ТУСУРа представил исследование «Пассивные устройства защиты от сверхкоротких импульсов и электростатического разряда на основе меандровых линий для бортовых систем», выполненное при поддержке гранта РНФ. Материалы доклада были рекомендованы к публикации в журнале «Информационные технологии».
Ректор НИЯУ МИФИ В.И. Шевченко выступил на конференции МЭС-2026 с докладом «Фотоника в МИФИ: от квантовых технологий до термояда» в секции «Фотоника и фотонные интегральные схемы».
Ключевые тезисы выступления:
В заключении доклада было подчеркнуто, что, поскольку электроника достигла физического предела, необходимо совершить переход к фотонным технологиям, и сейчас ключевой вопрос - как и кем будет осуществлён этот прорыв.
На выставочной экспозиции Сколтех представил ряд разработок:
Важным событием стал запуск первого в России сервиса контрактного производства фотонных интегральных схем на платформе «кремний-на-изоляторе» в мультипроектном формате, о чём объявила ректор Сколтеха Ю.Г. Горбунова.
По итогам конференции лучшие доклады получили рекомендации к публикации в высокорейтинговых научных журналах и для презентации на осеннем Форуме «Микроэлектроника» в Сириусе.

01.07.2026
Конференция «Микроэлектронные системы» (МЭС-2026)
04.06.2026
29-я Всероссийская научно-техническая конференция «Радиационная стойкость электронных систем» («СТОЙКОСТЬ-2026»)
01.06.2026
Совет по применению ЭКБ - 2026
01.06.2026
Итоги XI конференции «Достижения китайской электронной промышленности в производстве высоконадежной ЭКБ»